一、设备信息：

l  型号：Quanta FEG 450

l  生产厂家：美国FEI公司

二、工作原理：

    由电子枪发射电子束，经过一组磁透镜聚焦，聚焦后，用遮蔽孔径的方式选择电子束的尺寸后，通过一组控制电子束的扫描线圈，再透过物镜聚焦，打在样品上，由讯号接收器择取二次电子或背散射电子成像。

三、主要技术指标：

1.  分辨率

高真空模式：≤1.0nm@30kv(SE)、≤2.5nm@30kv(BSE)、≤3nm@1kv(SE);

低真空模式：≤1.4nm@30kv(SE)、≤2.5nm@30kv(BSE)、≤3nm@3kv(SE);

环境真空模式：≤1.4nm@30kv(SE)

2.  放大倍率/最大像数：10～10万/6144×4096

3.  电子枪：Schottky场发射电子枪

4.  样品室真空度：

高真空：优于6×10-4Pa、

低真空：优于10～130Pa、

环境真空：优于10～4000Pa

四、主要功能：

1. 观测样品的微区形貌和结构；

2. 利用能谱仪可分析样品的微区成分，对其表面物质进行定性和定量分析。

五、应用领域：

    可广泛应用于水泥基材料、陶瓷材料、玻璃材料、复合材料、薄膜材料、金属材料、生物材料等表面微观形貌观察及成分分析。

六、先进性：